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SEM設(shè)備(Sem設(shè)備會(huì)有輻射嗎)
大家好!今天讓創(chuàng)意嶺的小編來(lái)大家介紹下關(guān)于SEM設(shè)備的問(wèn)題,以下是小編對(duì)此問(wèn)題的歸納整理,讓我們一起來(lái)看看吧。
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本文目錄:
一、sem需要做哪些?
sem首先要具備賬戶(hù)搭建的能力、添加關(guān)鍵詞、寫(xiě)創(chuàng)意、對(duì)賬戶(hù)進(jìn)行分類(lèi)等。
其次需要具備數(shù)據(jù)分析能力,當(dāng)看到賬戶(hù)的消費(fèi)、轉(zhuǎn)化報(bào)告后,知道哪些關(guān)鍵詞應(yīng)該怎么樣去進(jìn)行優(yōu)化,到底是要是拓流、還是要否詞、修改匹配模式等等
知道從各個(gè)維度去進(jìn)行賬戶(hù)的優(yōu)化,計(jì)劃、單元、關(guān)鍵詞、創(chuàng)意層級(jí),以及時(shí)段、地域等方面
二、有沒(méi)有好的分析檢測(cè)公司推薦?要測(cè)試TEM、SEM
分析檢測(cè)TEM測(cè)試:
1.ZSM-5的TEM如何制樣?
答:在瑪瑙研缽中加上酒精研磨,在超聲波中分散,滴到微柵上就可以了。輻照的敏感程度與SiAl比有關(guān),SiAl比越大越穩(wěn)定。
2.對(duì)于衍射強(qiáng)度比較弱,壽命比較短的高分子樣品,曝光時(shí)間是長(zhǎng)一些還是短一些?
答:因?yàn)檠苌浔容^弱,雖然長(zhǎng)時(shí)間曝光是增加襯度的一種方法,但是透射斑的加強(qiáng)幅度更大,反而容易遮掩了本來(lái)就弱得多得點(diǎn),而且樣品容易損壞,還是短時(shí)間比較合適。我曾經(jīng)拍介孔分子篩的衍射,比較弱,放6-8s,效果比長(zhǎng)時(shí)間的好。
3.請(qǐng)教EDXS的縱坐標(biāo)怎么書(shū)寫(xiě)?
答:做了EDXS譜,發(fā)現(xiàn)各種刊物上的圖譜中,縱坐標(biāo)不一致??赡苁且?yàn)榻^對(duì)強(qiáng)度值并不太重要,所以x射線(xiàn)能譜圖縱坐標(biāo)的標(biāo)注并沒(méi)有一個(gè)統(tǒng)一的標(biāo)準(zhǔn)。除了有I/CPS、CPS、Counts等書(shū)寫(xiě)方法外,還有不標(biāo)的,還有標(biāo)成Intensity或Relative Intensity的,等等。具體標(biāo)成什么形式,要看你所投雜志的要求。一般標(biāo)成CPS的比較多,它表示counts per second,即能譜儀計(jì)數(shù)器的每秒計(jì)數(shù)。
4.EDAX和ED 相同嗎?
答:EDAX有兩個(gè)意思,一指X射線(xiàn)能量色散分析法,也稱(chēng)EDS法或EDX法,少用ED表示;二是指最早生產(chǎn)波譜儀的公司---美國(guó)EDAX公司。當(dāng)然生產(chǎn)能譜儀的不只EDAX公司,還有英國(guó)的Oxford等。
ED指的是掃描電子顯微鏡(SEM)或透射電子顯微鏡(TEM)上用的一種附屬分析設(shè)備---能譜儀,或指的是最早生產(chǎn)能譜儀的公司---美國(guó)伊達(dá)克斯有限公司,或這種分析技術(shù)。當(dāng)我們?cè)陔婄R上觀(guān)察電子顯微圖像的同時(shí),可以用這種附屬設(shè)備分析顯微圖像上的一個(gè)點(diǎn),或一個(gè)線(xiàn)或一個(gè)面上各個(gè)點(diǎn)所發(fā)射的X射線(xiàn)的能量和強(qiáng)度,以確定顯微圖像上我們感興趣的哪些點(diǎn)的元素信息(種類(lèi)和含量)。
三、銀行類(lèi)應(yīng)用系統(tǒng)名詞解釋?zhuān)琓OPS,IFE,SEM,B-EAI,ATM-C,ATM-P,的具體意思。急急急?。?!
TOPS數(shù)據(jù)探針由控制服務(wù)器集中管理的數(shù)據(jù)采集設(shè)備,負(fù)責(zé)進(jìn)行各種操作痕跡的抓取,包括交易報(bào)文、屏幕畫(huà)面等動(dòng)態(tài)和靜態(tài)痕跡信息,并傳送給控制服務(wù)器,作為監(jiān)控分析的基礎(chǔ)依據(jù)。
TOPS控制服務(wù)器負(fù)責(zé)接收和保存所抓取的各種操作痕跡信息,并根據(jù)設(shè)定好的監(jiān)控要點(diǎn)和監(jiān)控規(guī)則對(duì)這些痕跡信息進(jìn)行動(dòng)態(tài)分析,滿(mǎn)足監(jiān)控條件的情況下進(jìn)行報(bào)警。
TOPS用戶(hù)控制臺(tái)包括本地用戶(hù)控制臺(tái)與WEB控制臺(tái)。
內(nèi)部因素評(píng)價(jià)矩陣(Internal Factor Evaluation Matrix,IFE矩陣),是一種對(duì)內(nèi)部因素進(jìn)行分析的工具,其做法是從優(yōu)勢(shì)和劣勢(shì)兩個(gè)方面找出影響企業(yè)未來(lái)發(fā)展的關(guān)鍵因素,根據(jù)各個(gè)因素影響程度的大小確定權(quán)數(shù),再按企業(yè)對(duì)各關(guān)鍵因素的有效反應(yīng)程度對(duì)各關(guān)鍵因素進(jìn)行評(píng)分,最后算出企業(yè)的總加權(quán)分?jǐn)?shù)。通過(guò)IFE,企業(yè)就可以把自己所面臨的優(yōu)勢(shì)與劣勢(shì)匯總,來(lái)刻劃出企業(yè)的全部引力。
SEM:結(jié)構(gòu)方程模型(Structural·Equation·Modeling,SEM) 結(jié)構(gòu)方程模型是社會(huì)科學(xué)研究中的一個(gè)非常好的方法。該方法在20世紀(jì)80年代就已經(jīng)成熟,可惜國(guó)內(nèi)了解的人并不多?!霸谏鐣?huì)科學(xué)以及經(jīng)濟(jì)、市場(chǎng)、管理等研究領(lǐng)域,有時(shí)需處理多個(gè)原因、多個(gè)結(jié)果的關(guān)系,或者會(huì)碰到不可直接觀(guān)測(cè)的變量(即潛變量),這些都是傳統(tǒng)的統(tǒng)計(jì)方法不能很好解決的問(wèn)題。20世紀(jì)80年代以來(lái),結(jié)構(gòu)方程模型迅速發(fā)展,彌補(bǔ)了傳統(tǒng)統(tǒng)計(jì)方法的不足,成為多元數(shù)據(jù)分析的重要工具。
B-EAI:EAI(Enterprise Application Integration),是企業(yè)應(yīng)用集成 EAI是將基于各種不同平臺(tái)、用不同方案建立的異構(gòu)應(yīng)用集成的一種方法和技術(shù)。EAI通過(guò)建立底層結(jié)構(gòu),來(lái)聯(lián)系橫貫整個(gè)企業(yè)的異構(gòu)系統(tǒng)、應(yīng)用、數(shù)據(jù)源等,完成在企業(yè)內(nèi)部的 ERP、CRM、SCM、數(shù)據(jù)庫(kù)、數(shù)據(jù)倉(cāng)庫(kù),以及其他重要的內(nèi)部系統(tǒng)之間無(wú)縫地共享和交換數(shù)據(jù)的需要。有了 EAI,企業(yè)就可以將企業(yè)核心應(yīng)用和新的Internet解決方案結(jié)合在一起。(B2B、B2C-EAI)
ATM-C:自動(dòng)取款機(jī)模擬程序,atm機(jī)c語(yǔ)言程序。
ATM-P :ATM PIM自動(dòng)取款機(jī)個(gè)人信息管理。
四、sem如何調(diào)清晰
關(guān)鍵是聚焦,高倍聚焦,低倍成像。再就是調(diào)節(jié)對(duì)比度亮度得到一幅清晰的圖像。 如果比較了解電鏡的話(huà),還要調(diào)節(jié)像散,對(duì)中等等之類(lèi)的。
SEM想清楚這個(gè)要自己多試條件,不同的電壓、掃描速度、工作距離都是會(huì)影響圖片清晰度的,當(dāng)然條件確認(rèn)的情況下,就是要看你的技術(shù)咯,電子束對(duì)中,像散調(diào)節(jié),wobble,最后就是focus清晰啦。
制樣,成功制備出所要觀(guān)察的位置,樣品如果不導(dǎo)電,可能需要鍍金境電,環(huán)鏡處在無(wú)振動(dòng)干擾和無(wú)磁場(chǎng)干擾的環(huán)境下,設(shè)備,電鏡電子槍仍在合理的使用時(shí)間內(nèi),拍攝,找到拍攝位置,選擇合適距離,選擇合適探頭,對(duì)中,調(diào)像散,聚焦,反復(fù)操作至最清晰。
掃描電鏡作為一種基礎(chǔ)顯微成像工具,因具有超高的放大能力,從而被高校、科研院所、材料研發(fā)和質(zhì)量分析部門(mén)廣泛用于。
以上就是關(guān)于SEM設(shè)備相關(guān)問(wèn)題的回答。希望能幫到你,如有更多相關(guān)問(wèn)題,您也可以聯(lián)系我們的客服進(jìn)行咨詢(xún),客服也會(huì)為您講解更多精彩的知識(shí)和內(nèi)容。
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