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場(chǎng)發(fā)射電鏡和掃描電鏡的區(qū)別(場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡和普通掃描電鏡)
大家好!今天讓創(chuàng)意嶺的小編來(lái)大家介紹下關(guān)于場(chǎng)發(fā)射電鏡和掃描電鏡的區(qū)別的問(wèn)題,以下是小編對(duì)此問(wèn)題的歸納整理,讓我們一起來(lái)看看吧。
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本文目錄:
一、投射電鏡和掃描電鏡原理,透射電鏡和掃描電鏡的異同點(diǎn)
1.透射電鏡使用的信號(hào)是forwardscatteringelectrons,而掃描電鏡使用的是backwardscatteringelectrons,前者分辨率較后者高,如2010能夠達(dá)到3nm左右,可得到高分辨率圖像,觀察位錯(cuò)孿晶等,而后者一般用于觀察樣品表面形貌,由于掃描電鏡景深較大,所以圖像立體感強(qiáng),此外,投射電鏡很大一部分時(shí)間都花在樣品的制備上了,做到幾十個(gè)微米薄。
2.而相比較掃描電鏡樣品制備較簡(jiǎn)單。
二、掃描電鏡,透射電鏡
看表面形貌形態(tài)用掃描電鏡,樣品處理簡(jiǎn)單,掃描電鏡可以直接觀察你需要的表面,最好的場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡在1納米以下分辨率條件下,可以有效觀察10nm左右的結(jié)構(gòu)形態(tài)形貌(高低起伏幾何形狀等),鎢燈絲掃描電鏡在3nm分辨率條件下,可以有效觀察60nm以上的結(jié)構(gòu)形貌,都是比較極限的觀察條件。
由于電子穿透深度有限,所以使用透射電子一般無(wú)法觀察大于幾個(gè)微米厚度樣品的表面形貌。
過(guò)去用TEM觀察鋼鐵的表面形貌,需要制作復(fù)形碳膜,也就是現(xiàn)在樣品表面蒸發(fā)幾十納米厚碳膜,然后把金屬樣品腐蝕掉,只留下復(fù)制了樣品形貌的幾十納米厚的碳膜,然后用TEM觀察這個(gè)碳膜,可以間接表征塊狀物體形貌。所以透射電鏡基本無(wú)法直接觀察表面形貌,需要把樣品超薄切片或者離子減薄到微米級(jí),才可以進(jìn)行觀察,一般觀察的是內(nèi)部結(jié)構(gòu)的輪廓形態(tài),不會(huì)有表面細(xì)節(jié)。實(shí)際上經(jīng)過(guò)超薄處理的樣品表面幾乎是平的,沒(méi)有細(xì)節(jié),這個(gè)樣品在掃描電鏡下是沒(méi)有任何形貌反差的,掃描電鏡成像信號(hào)不會(huì)看到內(nèi)部結(jié)構(gòu)形態(tài)。透射電鏡分辨率極高,對(duì)于幾個(gè)納米的結(jié)構(gòu)形態(tài)會(huì)很輕松表征,進(jìn)一步可以看到原子晶格排列。整個(gè)視場(chǎng)在幾個(gè)納米范圍內(nèi)。
如果真需要更加精細(xì)的在幾十個(gè)納米范圍內(nèi)觀察樣品形貌,上面的朋友講的SPM(包括AFM,STM)也是不錯(cuò)選擇,但對(duì)樣品的嚴(yán)格程度和TEM差不多。
三、掃描電鏡原理 什么是場(chǎng)發(fā)射
掃描電鏡原理:
電子與物質(zhì)相互作用會(huì)產(chǎn)生透射電子,彈性散射電子,能量損失電子,二次電子,背反射電子,吸收電子,X射線(xiàn),俄歇電子,陰極發(fā)光和電動(dòng)力等等。
電子顯微鏡就是利用這些信息來(lái)對(duì)試樣進(jìn)行形貌觀察、成分分析和結(jié)構(gòu)測(cè)定的。
電子顯微鏡有很多類(lèi)型,主要有透射電子顯微鏡(簡(jiǎn)稱(chēng)透射電鏡,TEM)和掃描電子顯微鏡(簡(jiǎn)稱(chēng)掃描電鏡,SEM)兩大類(lèi)。
電子束通過(guò)加速電壓打到樣品上,稱(chēng)場(chǎng)發(fā)射。
四、掃描電鏡和投射電鏡的區(qū)別
他們之間參數(shù)、原理就不說(shuō)了,很好搜到。
可以這樣理解 :掃描電鏡看到的是物體的表面輪廓,產(chǎn)生真實(shí)的立體感圖像。如下圖
而透射電鏡可以看到清楚的物體內(nèi)部結(jié)構(gòu),如右圖
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